目前，制備超疏水表面多采用濕法工藝，但由于聚四氟乙烯幾乎不溶于市面的溶劑，并不適用于濕法工藝，采用低功率電子束蒸發(fā)法制備聚四氟乙烯薄膜，主要研究?jī)?nèi)容有：采用低功率電子束法在陶瓷片基底上沉積聚四氟乙烯薄膜，研究制備工藝、基底性質(zhì)對(duì)聚四氟乙烯薄膜形貌、濕潤(rùn)性能的影響。結(jié)果表明，所制備的薄膜表面均呈疏水性，硫酸濃度、刻蝕時(shí)間、沉積時(shí)間對(duì)薄膜的表面形貌、粗糙度、疏水性均產(chǎn)生顯著影響；在陶瓷片和載玻片上沉積聚四氟乙烯薄膜并計(jì)算基底表面能。發(fā)現(xiàn)基底表面粗糙度和表面能同時(shí)影響薄膜的表面濕潤(rùn)性，但表面能的作用比粗糙度更明顯。

        通過(guò)改變制備條件，在經(jīng)草酸刻蝕過(guò)的Cu片基底上成功制備出超疏水聚四氟乙烯薄膜，切薄膜表面最大接觸角達(dá)到153.34°，滾動(dòng)角幾乎為0°，具有優(yōu)異的超疏水效果。通過(guò)分析，進(jìn)一步說(shuō)明低表面能物質(zhì)的裝飾是基底表面呈現(xiàn)超疏水性的主要原因。

        以磁控濺射法制備的Cu膜為基底，分別退火或H2O2溶劑處理后制備Cu/聚四氟乙烯PTFE復(fù)合膜，研究工藝條件對(duì)復(fù)合膜表面形貌、粗糙度及疏水性的影響。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，H2O2處理過(guò)的Cu膜表面形成納米棒結(jié)構(gòu)，且粗糙度較大；在該基底上沉積聚四氟乙烯PTFE薄膜，測(cè)得Cu/PTFE復(fù)合膜表面接觸角最大達(dá)到155.17°，滾動(dòng)角2°，顯示出優(yōu)良的超疏水性。
        采用電子束蒸發(fā)法在Cu片上沉積聚乙烯PT/PTFE復(fù)合膜，研究過(guò)渡層PE的厚度對(duì)復(fù)合膜表面粘附性及疏水性的影響。結(jié)果表明，經(jīng)草酸刻蝕過(guò)的Cu片上復(fù)合膜的疏水性比為刻蝕的好；同時(shí)，粘附力與接觸角呈負(fù)相關(guān)，粘附力越小，其接觸角越大，表面疏水性越好。說(shuō)明一定厚度的PE過(guò)渡層能明顯降低薄膜表面粘附力，增強(qiáng)疏水性。